Galvanoresist für den Einsatz in der Secondary Imaging Technology (SIT), schützt Metalloberflächen während des chemisch Ni/Au-Prozesses (ENiG) und ermöglicht eine zusätzliche OSP Endoberfläche
gute Haftfestigkeit auf Kupfer und Lötstopplacken
alkalisch strippbar
empfohlene Hilfsprodukte: Sieböffner HP 5200, Anti-Statik-Spray HP 5500, Reinigungsmittel R 5899, R 5821 und R 5817
